|
1. Segondè epesè fim, vit geri nan divès koulè 2. Bon Adhesion, pa bezwen Jadendanfan, Adhesion ekselan nan klou moun 3. Bon severite, pa gen fann lè bese nan apeprè 90 degre 4. Rezistan a siye alkòl 20-30 fwa 5. Anti-grafouyen, mete ki reziste, segondè dite ak bon pwoteksyon |
|
6. Reyaksyon an pa ekzotèmik 7. Koulè klere, pa gen jòn 8. Segondè enteprete ak plenite 9. Iritasyon po ki ba 10. Retire solisyon klou |
|
Founisè |
Atik |
Kalite |
%bw |
Espesyalite |
|
U-SUNNY |
Fè konfyans 7050 |
Rezin |
42 |
Ekselan adezyon ak ekselan severite |
|
U-SUNNY |
Fè konfyans 7080 |
Rezin |
28 |
Seche rapid, grate ak usure rezistan |
|
U-SUNNY |
FM362 |
monomè |
13 |
Seche rapid ak gwo pouvwa dilution |
|
lubrizol |
28000 |
Disperser |
0.2 |
Dispèsyon pigman |
|
tego |
245 |
Ajan mouye |
0.2 |
Mouye ak nivelman |
|
tego |
920 |
Defoamer |
0.3 |
defoaming |
|
DIC |
Woz E |
Pigman |
3 |
Pigman wouj, gwo pwoteksyon |
|
Sachtleben |
Mikwo |
Filler |
4 |
Devlopman koulè, rediksyon pri, ranpli redi |
|
Shamrock |
Fs421 |
Deurex |
1 |
Anti-grafouyen ak mete ki reziste |
|
siba |
TPO |
Fotoinisyatè |
2 |
inisyatè |
|
siba |
907 |
Fotoinisyatè |
4.5 |
inisyatè vag long |
|
siba |
ITX |
Fotoinisyatè |
1.5 |
ko-inisyatè |
|
TOTAL |
|
|
100% |
|
Konsepsyon resèt:
Kondisyon tès yo: 9W ble dirije sous limyè, longèdonn 415nm
Epesè fim 60-80um (kouvwi sou tès dekale fim lage)
Pèfòmans:
A. Epesè fim nan 60um geri byen vit, ak sifas la sèk nan 60 segonn apre geri nan 30 segonn.
B. Adhesion ekselan nan klou moun
C. Flexibility bending test >120 degre san pete
D. 99.8% analyse pi bon kalite alkòl 500g tès fwote fòs, pa gen okenn dekolorasyon ak fenomèn ma
E. Pa gen okenn fenomèn ekzotèrmik evidan
F. Koulè klere epi pa gen okenn fenomèn jòn
G. High gloss, high fullness, tested at 65° angle, gloss >96 degre
H. Iritasyon po ki ba, pa gen okenn move odè
I. Nail retire klou fasil pou netwaye